Laboratorio de Depósito Físico de Películas Delgadas
Responsable: Dr. Antonio Méndez Blas
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Depósito de películas delgadas por rocío pirolítico y spin-coating. Tratamiento térmico de muestras y sistema holográfico en λ=350 nm. Este laboratorio se inició con el desarrollo del proceso de ataque electroquímico de silicio enfocado a la generación de estructuras fotónicas unidimensionales. Actualmente el sistema de anodización electroquímica se ha perfeccionado hasta tener la capacidad de generar capas de menos de 100 nm, teniendo control sobre el índice de refracción en el rango de 1.2 - 2.5 y estabilizados térmica- o químicamente.
La infiltración de materiales en sistemas porosos es un tema que también se desarrolla intensamente en este laboratorio. Materiales como los óxidos de lantánidos, semiconductores o moléculas biológicas se han logrado acoplar exitosamente con la respuesta óptica del silicio nano estructurado, lo que permite una amplia perspectiva de aplicación en emisores de luz, sensores o materiales fotovoltaicos, entre otras.
Se cuenta también con un sistema de recubrimientos por la técnica se "Spin - coating" y sistemas ópticos para el desarrollo de holografía como técnicas complementarias, pero con amplias aplicaciones en el desarrollo de materiales ópticamente activos.
